真空镀膜行业-质量流量控制器的应用
发布时间：
2022-07-19 09:56
公司简介
青岛芯笙微纳电子科技有限公司获得国家发明专利和荣誉资质39项
青岛芯笙将继续专注在微小气体流量测控领域，致力于为客户提供高品质产品和专业化服务，以质量和信誉为本加强管理，为推动国产分析仪器、半导体装备的发展作出贡献。
行业概况
随着工业技术的不断发展，对材料的综合性能要求也不断提高，单一材料性能已不能满足某些特定环境下工作机械的性能要求。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。因此 , 作为材料表面处理技术的重要组成部分──真空薄膜沉积 技术 , 近年来在国内得到了迅速地发展。青岛芯笙以独有的微机电系统（MEMS）为基础，推出多款高性能气体质量流量计(MFM)和气体质量流量控制器(MFC)产品，具有精度高、响应速度快、 温度和压力不敏感等特点，为真空镀膜行业中的气体使用提供精确测控。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要分支。真空镀膜技术一般分为两大类，其中，在真空中把 金属、合金或化合物进行蒸发或溅射使其在基片上凝固并沉积的方法，称为物理气相沉积（PVD） ；在一定温度下，将含有制膜材料的反应气体通到基片上，通过化学反应形成薄膜的方法，称为称 为化学气相沉积（CVD）。
真空镀膜在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛 的应用，如半导体薄膜的沉积，low-E镀膜玻璃的生产等。
玻璃涂层工艺与流量测控
离线法生产Low-E玻璃，目前国际上普遍采用真空磁控溅射镀膜技术。在垂直式生产工艺中， 玻璃垂直放置在架子上，送入10-1帕数量级的真空环境中，通入适量的工艺气体（惰性气体Ar或反 应气体O2、N2），并保持真空度稳定，其中通入工艺气体需要气体质量流量控制器来进行精准测控。
玻璃涂层在于修改其光学特性，提升其太阳能传递特征或者改变其外观。无论是能量控制或者只是建筑要求，玻璃涂层工艺要求严格。 为达到薄膜涂层最高品质标准，工艺气系统必须能够提供高品质的涂层一致性。当大规模的涂层设备在使用，维护的简单化也是一个重要的关注点。
氧化炉/扩散炉/LPCVD设备配气模块
LPCVD低压力化学气相沉积法广泛用于氧化硅、氮化物、多晶硅沉积过程在管炉中执行。热氧 化炉、扩散炉，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业 的扩散、 氧化、退火、合金及烧结等工艺。
在真空沉积设备中，质量流量控制器用于供应气体。反应溅射是一种溅射颗粒与引入溅射腔体的气体发生反应的沉积技术。为此，高能氩轰击目标，通常是铝等金属板，释放出溅射金属颗粒的蒸汽。它们与所供反应气体（通常是氧气或氮气）发生反应，使极薄的陶瓷层沉积在玻璃、硅片、金属或聚合物上。反应溅射用于涂覆防反射、硬化、耐磨、防腐等涂层。质量流量控制器在气体供应中起着高度相关的作用。
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