在真空沉积设备中，质量流量控制器用于供应气体。反应溅射是一种溅射颗粒与引入溅射腔体的气体发生反应的沉积技术。为此，高能氩轰击目标，通常是铝等金属板，释放出溅射金属颗粒的蒸汽。它们与所供反应气体（通常是氧气或氮气）发生反应，使极薄的陶瓷层沉积在玻璃、硅片、金属或聚合物上。反应溅射用于涂覆防反射、硬化、耐磨、防腐等涂层。质量流量控制器在气体供应中起着高度相关的作用。
在许多分析应用中，一个常见的因素是需要微小的稳定气流（流量范围：1-1000 mln/min），因为气流及其变化在测量中是直接可见的，气流稳定很重要。在数据表上，需要短期重复性和控制稳定性，以及多年使用的长期稳定性。
工程配套：在实验室气体工程中，做到安全性高且能实现集中分配供气的系统完成从气源向仪 器的供气需要搭配气体质量流量计或气体质量流量控制器。
磁控溅射是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。青岛芯笙S500系列气体质量流量控制器可广泛应用于真空镀膜行业领域，产品具有独特的气体流道设计，可实现灵活的分流比配置，可实现气体种类切换及满量程切换功能，最小控制精度为0.1sccm，配备工业级显示屏，方便客户现场调试和配置。
热氧化炉、扩散炉，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。
单晶炉是一种在惰性气体（氮气、氩气为主）环境中,用石墨加热器将多晶硅等多晶材料熔化,用直拉法生长无错位单晶的设备。
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