在真空沉积设备中，质量流量控制器用于供应气体。反应溅射是一种溅射颗粒与引入溅射腔体的气体发生反应的沉积技术。为此，高能氩轰击目标，通常是铝等金属板，释放出溅射金属颗粒的蒸汽。它们与所供反应气体（通常是氧气或氮气）发生反应，使极薄的陶瓷层沉积在玻璃、硅片、金属或聚合物上。反应溅射用于涂覆防反射、硬化、耐磨、防腐等涂层。质量流量控制器在气体供应中起着高度相关的作用。
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