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国际知名传感器企业美国Gems Setra（西特）高层亲临芯笙，共谱产业“芯”图景
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2025
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市委书记曾赞荣莅临青岛芯笙微纳电子科技调研 强调深耕细分领域增强配套能力
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【市长杯】青岛芯笙荣耀加冕！2024“创客中国” 青岛赛区冠军！半导体创新引领未来
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2024
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青岛芯笙微纳迎来科技局领导莅临视察，共谋科技创新发展蓝图
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青岛芯笙邀您共赴第十三届半导体设备与核心部件及材料展
第十三届半导体设备与核心部件及材料展(CSEAC 2025)将于9月4日至6日在无锡太湖国际博览中心举行。
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SNEC光伏展首日 | 青岛芯笙精彩亮相，气体测控技术助力光伏智造升级
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PECVD技术在薄膜涂覆中的应用
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术是一种常用的薄膜涂覆技术，具有高效、均匀、可控的特点。通过激活各种气体进行反应，形成不同性质的薄膜，广泛应用于半导体、光伏、电子显示等领域。
PECVD工作原理
PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）是一种在大气上采用等离子体技术进行化学气相沉积的方法。本文将介绍PECVD的工作原理，以及其在材料制备领域的应用。
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